schliessen

Filtern

 

Bibliotheken

Handbook of plasma processing technology : fundamentals, etching, deposition, and surface interactions / ed. by Stephen M. Rossnagel ...

PPN (Catalogue-ID): 01734512X
Personen: Rossnagel, Stephen M.
Cuomo, Jerome J.
Format: Book Book
Language: English
Published: Westwood, NJ, Noyes Publ., 1990
Series: Materials science and process technology series
Basisklassifikation: 33.72 Halbleiterphysik
52.78 Oberflächentechnik Wärmebehandlung
33.68 Oberflächen Dünne Schichten Grenzflächen
Subjects:

Plasma engineering

Semiconductors / Etching

Plasma etching

Notes: Literaturangaben
Physical Description: XXIII, 523 S, graph. Darst.
ISBN: 0-8155-1220-1

Similar Items

Vorhandene Hefte/Bände

more (+)

Informationen zur Verfügbarkeit werden geladen

Staff View
LEADER 03443nam a2200841 c 4500
001 01734512X
003 DE-601
005 20180507114943.0
008 901030s1990 xxu 000 0 eng d
020 |a 0815512201  |9 0-8155-1220-1 
035 |a (OCoLC)20265048 
035 |a (DE-599)GBV01734512X 
040 |b ger  |c GBVCP 
041 0 |a eng 
050 0 |a TA2020 
082 0 0 |a 621.044 
084 |a 33.72  |9 Halbleiterphysik  |2 bkl 
084 |a 52.78  |9 Oberflächentechnik  |9 Wärmebehandlung  |2 bkl 
084 |a 33.68  |9 Oberflächen  |9 Dünne Schichten  |9 Grenzflächen  |2 bkl 
245 0 0 |a Handbook of plasma processing technology  |b fundamentals, etching, deposition, and surface interactions  |c ed. by Stephen M. Rossnagel ... 
264 3 1 |a Westwood, NJ  |b Noyes Publ.  |c 1990 
300 |a XXIII, 523 S.  |b graph. Darst. 
490 0 |a Materials science and process technology series 
500 |a Literaturangaben 
653 0 |a Plasma engineering 
653 0 |a Semiconductors  |a Etching 
653 0 |a Plasma etching 
700 1 |a Rossnagel, Stephen M. 
700 1 |a Cuomo, Jerome J. 
856 4 2 |y Publisher description  |u http://www.loc.gov/catdir/description/wap041/89022834.html 
912 |a SYSFLAG_1 
912 |a GBV_GVK 
912 |a GBV_ILN_20 
912 |a GBV_ILN_23 
912 |a GBV_ILN_24 
912 |a GBV_ILN_32 
912 |a GBV_ILN_40 
912 |a GBV_ILN_62 
912 |a GBV_ILN_69 
912 |a GBV_ILN_70 
912 |a GBV_ILN_100 
912 |a GBV_ILN_150 
912 |a GBV_ILN_185 
912 |a GBV_ILN_24_f062 
912 |a GBV_ILN_40_i410 
951 |a BO 
980 |2 20  |1 01  |b 019210116  |d 2695-3225  |x 0084  |y n  |z 19-02-92 
980 |2 23  |1 01  |b 16280282X  |f 24  |d 2497-7834  |e u  |x 0830  |y zu  |z 22-03-95 
980 |2 24  |1 01  |b 09518578X  |f 8/62  |d 54.0 Ros 1  |e i  |h sh | zo  |x 0008  |y zf062  |z 22-03-95 
980 |2 32  |1 01  |b 131466658  |f 57  |d WER ZM 7680 R837  |e u  |l ;1=Quelle pros... ;2=Ex 1... ;2.1=... ;2.2=... ;2.3=... ;2.4=... ;3=Preis $86,00... ;4=UK c53... ;5=Sto 69... ;5.1=... ;5.2=... ;5.3=... ;5.4=... ;6=vhd FremdL b... ;7=BearbSt ... ;8=RechnNr M 083444... ;9=RechnDat 29.11.95... ;10=Rabatt %25... ;11=BestDat 15.8.94... ;12=BestArt ... ;13=Lief 653... ;14=Bemerk ...  |x 3400  |y k  |z 11-06-01 
980 |2 40  |1 01  |b 572129807  |f 7/410  |d Ros  |e i  |x 0007  |y zi410  |z 19-09-02 
980 |2 62  |1 01  |b 219757046  |f 28/BB1  |d UP 9350 R837  |e u  |d 96 A 32973  |x 0028  |y zi013  |z 26-11-96 
980 |2 69  |1 01  |b 164748768  |f UB 660  |d 660/UP 9350 R837  |e u  |x 0009  |y z  |z 22-03-95 
980 |2 70  |1 01  |b 019210124  |f Haus2  |d FO 6385  |e u  |x 0089  |y n  |z 31-10-90 
980 |2 100  |1 01  |b 141866713  |f FH  |d 1994 a 7383:1  |e u  |x 3100  |y k  |z 21-04-04 
980 |2 100  |1 02  |b 306831996  |f FH  |d 1994 a 7383:2  |e u  |x 3100  |y k  |z 26-10-98 
980 |2 150  |1 01  |b 485393387  |d 52.78,72-96/13515  |e u  |x 3406  |y z  |z 04-05-01 
980 |2 185  |1 01  |b 307352803  |d UP 9350 R837  |e u  |x 3519  |y z  |z 29-10-98 
980 |2 185  |1 02  |b 307352811  |d UP 9350 R837  |e u  |x 3519  |y z  |z 29-10-98 
982 |2 32  |1 00  |8 00  |a Plasmastrahlbearbeitung 
982 |2 32  |1 00  |8 01  |a Plasmaätzen 
982 |2 32  |1 00  |8 02  |a Sputtern 
982 |2 62  |1 00  |8 00  |a Sputtern 
982 |2 62  |1 00  |8 01  |a Halbleiter 
982 |2 62  |1 00  |8 01  |a Plasmastrahlbearbeitung 
982 |2 62  |1 00  |8 02  |a Plasmatechnik 
983 |2 20  |1 00  |8 00  |a 539.23 
983 |2 32  |1 00  |8 00  |a ZM 7680 
983 |2 69  |1 00  |8 00  |a UP 9350 
983 |2 70  |1 00  |8 00  |a fer 973 
983 |2 100  |1 00  |8 00  |a C. 635 
983 |2 185  |1 00  |8 00  |a UP 9350 
995 |2 24  |1 01  |a sh | zo