schliessen

Filtern

 

Bibliotheken

Study of the N yield in a microwave plasma for the deposition of CNH materials : measurement in the remote plasma, kinetic study and etching of a-C:H films by N atoms / von David Douai

PPN (Catalogue-ID): 341796506
Personen: Douai, David
Format: eBook eBook
Language: English
Published: 2001
Hochschule: Bochum, Univ., Diss., 2001
Basisklassifikation: 33.80
52.78
RVK:

ZM 7687:

Subjects:

Mikrowellenplasma / Stickstoffatom / Quadrupolmassenspektrometrie / Boltzmann-Gleichung / Plasmaätzen

Formangabe: Hochschulschrift
Physical Description: Online-Ressource (PDF-Datei: 176 S., 3527 KB)
Technische Details: Systemvoraussetzungen: Acrobat reader.

Similar Items

Vorhandene Hefte/Bände

more (+)

Informationen zur Verfügbarkeit werden geladen

Staff View
LEADER 03547cam a2200901 4500
001 341796506
003 DE-627
005 20190222184528.0
007 cr uuu---uuuuu
008 020206s2001 xx |||||om 00| ||eng c
015 |a 02,H02,0680  |2 dnb 
016 7 |a 963172050  |2 DE-101 
035 |a (DE-627)341796506 
035 |a (DE-599)GBV341796506 
035 |a (OCoLC)76333310 
040 |a DE-627  |b ger  |c DE-627  |e rakwb 
041 |a eng 
044 |c XA-DE 
084 |a 29  |2 sdnb 
084 |a ZM 7687  |q BVB  |2 rvk 
084 |a 33.80  |2 bkl 
084 |a 52.78  |2 bkl 
100 1 |a Douai, David  |d 1969-  |0 (DE-588)123375428  |0 (DE-627)706276248  |0 (DE-576)293682240 
245 1 0 |a Study of the N yield in a microwave plasma for the deposition of CNH materials  |b measurement in the remote plasma, kinetic study and etching of a-C:H films by N atoms  |c von David Douai 
264 1 |c 2001 
300 |a Online-Ressource (PDF-Datei: 176 S., 3527 KB) 
336 |a Text  |b txt  |2 rdacontent 
337 |a Computermedien  |b c  |2 rdamedia 
338 |a Online-Ressource  |b cr  |2 rdacarrier 
502 |a Bochum, Univ., Diss., 2001 
538 |a Systemvoraussetzungen: Acrobat reader. 
655 7 |a Hochschulschrift  |0 (DE-588)4113937-9  |0 (DE-627)105825778  |0 (DE-576)209480580  |2 gnd-content 
689 0 0 |D s  |0 (DE-588)4417807-4  |0 (DE-627)213352966  |0 (DE-576)212233734  |a Mikrowellenplasma  |2 gnd 
689 0 1 |D s  |0 (DE-588)4563955-3  |0 (DE-627)305141716  |0 (DE-576)213750066  |a Stickstoffatom  |2 gnd 
689 0 2 |D s  |0 (DE-588)4176579-5  |0 (DE-627)105355453  |0 (DE-576)209971703  |a Quadrupolmassenspektrometrie  |2 gnd 
689 0 3 |D s  |0 (DE-588)4146261-0  |0 (DE-627)105585300  |0 (DE-576)20974779X  |a Boltzmann-Gleichung  |2 gnd 
689 0 4 |D s  |0 (DE-588)4174821-9  |0 (DE-627)105369160  |0 (DE-576)209959479  |a Plasmaätzen  |2 gnd 
689 0 |5 DE-101 
751 |a Bochum  |4 uvp 
856 4 0 |u http://www-brs.ub.ruhr-uni-bochum.de/netahtml/HSS/Diss/DouaiDavid/diss.pdf 
856 4 0 |u http://d-nb.info/963172050 
912 |a GBV_ILN_20 
912 |a SYSFLAG_1 
912 |a GBV_KXP 
912 |a GBV_ILN_21 
912 |a GBV_ILN_22 
912 |a GBV_ILN_30 
912 |a GBV_ILN_40 
912 |a GBV_ILN_60 
912 |a GBV_ILN_70 
912 |a GBV_ILN_110 
936 r v |a ZM 7687 
936 b k |a 33.80  |j Plasmaphysik  |0 (DE-627)106408046 
936 b k |a 52.78  |j Oberflächentechnik  |j Wärmebehandlung  |0 (DE-627)106421395 
951 |a BO 
980 |2 20  |1 01  |b 653166192  |x 0084  |y x  |z 22-06-04 
980 |2 21  |1 01  |b 659591901  |x 0046  |y z  |z 13-08-04 
980 |2 22  |1 01  |b 554870150  |h SUBolrd  |x 0018  |y xu  |z 08-05-02 
980 |2 30  |1 01  |b 719672619  |x 0104  |y z  |z 14-05-05 
980 |2 40  |1 01  |b 578525933  |h OLR-D  |l 2015-06  |x 0007  |y xsn  |z 16-11-02 
980 |2 60  |1 01  |b 578525941  |x 0705  |y z  |z 16-11-02 
980 |2 70  |1 01  |b 1473995159  |x 0089  |y z  |z 16-05-14 
980 |2 110  |1 01  |b 719672627  |x 3110  |y xz  |z 14-05-05 
981 |2 20  |1 01  |r http://d-nb.info/963172050 
981 |2 21  |1 01  |r http://d-nb.info/963172050/34 
981 |2 22  |1 01  |r http://deposit.ddb.de/cgi-bin/dokserv?idn=963172050 
981 |2 30  |1 01  |r http://deposit.ddb.de/cgi-bin/dokserv?idn=963172050 
981 |2 40  |1 01  |r http://d-nb.info/963172050 
981 |2 60  |1 01  |r http://d-nb.info/963172050 
981 |2 70  |1 01  |y OA  |r http://edok01.tib.uni-hannover.de/edoks/e01dd14/341796506.pdf 
981 |2 110  |1 01  |r http://d-nb.info/963172050 
983 |2 60  |1 01  |8 10  |a ho 
985 |2 21  |1 01  |a OLRD 
985 |2 30  |1 01  |a OLRD 
985 |2 60  |1 01  |a OLRD 
985 |2 110  |1 01  |a OLRD 
995 |2 22  |1 01  |a SUBolrd 
995 |2 40  |1 01  |a OLR-D