schliessen

Filtern

 

Bibliotheken

Deposition of nanostructured Cu-Ti based films by advanced magnetron sputtering methods / von Steffen Drache

Magnetron, Sputtern, Plasmadiagnostik, Nanopartikel, Beschichtung, HiPIMS, Sputtering, Nanoparticles

PPN (Catalogue-ID): 831943076
Personen: Drache, Steffen
Format: eBook eBook
Language: English
Published: 2015
Hochschule: Greifswald, Univ., Diss., 2015
Basisklassifikation: 33.80
35.45
50.94
33.09
Subjects:

Magnetron / Sputtern / Plasmadiagnostik / Nanopartikel / Beschichtung

Formangabe: Hochschulschrift
Physical Description: Online-Ressource (PDF-Datei: 167 S., 20496 KB), Ill., graph. Darst.

Similar Items

Vorhandene Hefte/Bände

more (+)

Informationen zur Verfügbarkeit werden geladen

Staff View
LEADER 08198cam a2201681 4500
001 831943076
003 DE-627
005 20190310054049.0
007 cr uuu---uuuuu
008 150723s2015 xx |||||om 00| ||eng c
015 |a 15,O08  |2 dnb 
016 7 |a 1074262468  |2 DE-101 
024 7 |a urn:nbn:de:gbv:9-002289-5  |2 urn 
035 |a (DE-627)831943076 
035 |a (DE-599)GBV831943076 
035 |a (OCoLC)916108782 
035 |a (DE-101)1074262468 
040 |a DE-627  |b ger  |c DE-627  |e rakwb 
041 |a eng 
044 |c XA-DE-MV 
082 0 |a 530  |2 23sdnb 
082 0 4 |a 530  |q DNB 
084 |a 33.80  |2 bkl 
084 |a 35.45  |2 bkl 
084 |a 50.94  |2 bkl 
084 |a 33.09  |2 bkl 
100 1 |a Drache, Steffen 
245 1 0 |a Deposition of nanostructured Cu-Ti based films by advanced magnetron sputtering methods  |c von Steffen Drache 
264 1 |c 2015 
300 |a Online-Ressource (PDF-Datei: 167 S., 20496 KB)  |b Ill., graph. Darst. 
336 |a Text  |b txt  |2 rdacontent 
337 |a Computermedien  |b c  |2 rdamedia 
338 |a Online-Ressource  |b cr  |2 rdacarrier 
502 |a Greifswald, Univ., Diss., 2015 
520 |a Magnetron, Sputtern, Plasmadiagnostik, Nanopartikel, Beschichtung, HiPIMS, Sputtering, Nanoparticles 
520 |a A system for the deposition of intermetallic Cu-Ti based films by magnetron sputtering was developed, built up and characterized by different plasma diagnostics. The dual and externally triggerable power electronics with high parallel capacity allows the pulsing of both magnetrons against each other at an arbitrary frequency f, duty cycle t_a/T and pulse delay t_d. This way, apart from conventional pulse modes (dual-MS: f = 4.6 kHz, t_a/T = 50 %), also high power impulse magnetron sputtering (dual-HiPIMS: f = 100 Hz, t_a/T = 1 %) can be put into effect. Further, the different sputtering yields of Ti and Cu can be compensated by individual mean discharge currents. The discharge characteristics show very high pulse currents (I > 50 A) during HiPIMS. Langmuir probe measurements verify higher electron densities (n_e = 10^18 m^-3) and a broader electron energy distribution in contrast to dual-MS. As a result, stronger ionization and excitation of plasma species can be observed by optical emission spectroscopy (OES). Spectrally integrated OES was used to describe the spatiotemporal discharge evolution. The velocity distribution function of ions, that are important for the film generation ,are attained time-resolved with a retarding field energy analyzer. The deposited films were analyzed by x-ray diagnostics and their properties interpreted with respect to the film growth at different discharge modes. Film thickness, crystallinity and mass density reveal an obvious dependency on ... 
583 1 |z Langzeitarchivierung gewährleistet  |2 pdager 
655 7 |a Hochschulschrift  |0 (DE-588)4113937-9  |0 (DE-627)105825778  |0 (DE-576)209480580  |2 gnd-content 
689 0 0 |D s  |0 (DE-588)4037035-5  |0 (DE-627)106239791  |0 (DE-576)209021683  |a Magnetron  |2 gnd 
689 0 1 |D s  |0 (DE-588)4182614-0  |0 (DE-627)105309141  |0 (DE-576)210012862  |a Sputtern  |2 gnd 
689 0 2 |D s  |0 (DE-588)4260997-5  |0 (DE-627)104637641  |0 (DE-576)210594055  |a Plasmadiagnostik  |2 gnd 
689 0 3 |D s  |0 (DE-588)4333369-2  |0 (DE-627)148058310  |0 (DE-576)211339695  |a Nanopartikel  |2 gnd 
689 0 4 |D s  |0 (DE-588)4144863-7  |0 (DE-627)10559511X  |0 (DE-576)20973714X  |a Beschichtung  |2 gnd 
689 0 |5 (DE-627) 
751 |a Greifswald  |4 uvp 
776 0 8 |i Druckausg.  |a Drache, Steffen  |t Deposition of nanostructured Cu-Ti based films by advanced magnetron sputtering methods  |d 2015  |h VIII, 159 S.  |w (DE-627)832254053 
856 4 0 |u https://epub.ub.uni-greifswald.de/rewrite/index/id/type/opus3-id/value/2289 
856 4 0 |u http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:gbv:9-002289-5  |v 2015-08-05  |x Resolving-System  |3 Volltext 
856 4 0 |u http://d-nb.info/1074262468/34  |v 2015-08-05  |x Langzeitarchivierung Nationalbibliothek  |3 Volltext 
856 4 0 |u https://epub.ub.uni-greifswald.de/rewrite/index/id/type/opus3-id/value/2289  |v 2015-08-05  |x Verlag  |z kostenfrei  |3 Volltext 
856 7 |u urn:nbn:de:gbv:9-002289-5  |2 urn 
912 |a GBV-ODiss 
912 |a GBV_ILN_20 
912 |a SYSFLAG_1 
912 |a GBV_KXP 
912 |a GBV-ODiss 
912 |a GBV_ILN_21 
912 |a GBV-ODiss 
912 |a GBV_ILN_22 
912 |a GBV-ODiss 
912 |a GBV_ILN_23 
912 |a GBV-ODiss 
912 |a GBV_ILN_30 
912 |a GBV-ODiss 
912 |a GBV_ILN_40 
912 |a GBV-ODiss 
912 |a GBV_ILN_60 
912 |a GBV-ODiss 
912 |a GBV_ILN_63 
912 |a GBV-ODiss 
912 |a GBV_ILN_69 
912 |a GBV-ODiss 
912 |a GBV_ILN_70 
912 |a GBV-ODiss 
912 |a GBV_ILN_105 
912 |a GBV-ODiss 
912 |a GBV_ILN_110 
912 |a GBV-ODiss 
912 |a GBV_ILN_132 
912 |a GBV-ODiss 
912 |a GBV_ILN_161 
912 |a GBV-ODiss 
912 |a GBV_ILN_170 
912 |a GBV-ODiss 
912 |a GBV_ILN_213 
912 |a GBV-ODiss 
912 |a GBV_ILN_293 
936 b k |a 33.80  |j Plasmaphysik  |0 (DE-627)106408046 
936 b k |a 35.45  |j Übergangselemente und ihre Verbindungen  |0 (DE-627)106408704 
936 b k |a 50.94  |j Mikrosystemtechnik  |j Nanotechnologie  |0 (DE-627)181570645 
936 b k |a 33.09  |j Physik unter besonderen Bedingungen  |0 (DE-627)181571110 
951 |a BO 
980 |2 20  |1 01  |b 1561324477  |x 0084  |y x  |z 06-08-15 
980 |2 21  |1 01  |b 1561346306  |x 0046  |y z  |z 06-08-15 
980 |2 22  |1 01  |b 1561367710  |h SUBolrd  |x 0018  |y xu  |z 06-08-15 
980 |2 23  |1 01  |b 1561382590  |h olr-d  |x 0830  |y x  |z 06-08-15 
980 |2 30  |1 01  |b 1561393800  |x 0104  |y z  |z 06-08-15 
980 |2 40  |1 01  |b 1561411671  |x 0007  |y xsn  |z 06-08-15 
980 |2 60  |1 01  |b 1561433543  |h OLRD  |x 0705  |y z  |z 06-08-15 
980 |2 63  |1 01  |b 1595890017  |h ORD  |x 3401  |y x  |z 21-01-16 
980 |2 69  |1 01  |b 1556454856  |l ACQ  |x 0009  |y x  |z 04-08-15 
980 |2 70  |1 01  |b 1561462667  |x 0089  |y zdt  |z 06-08-15 
980 |2 105  |1 01  |b 1596702575  |x 0841  |y z  |z 21-01-16 
980 |2 110  |1 01  |b 1561449156  |x 3110  |y x  |z 06-08-15 
980 |2 132  |1 01  |b 1591538300  |h OLR-DISS  |x 0959  |y x  |z 19-12-15 
980 |2 161  |1 01  |b 159770881X  |h ORD  |x 0960  |y x  |z 28-01-16 
980 |2 170  |1 01  |b 1565433408  |d E-Dissertation  |e o  |l EDISS  |x 3027  |y zi1  |z 03-09-15 
980 |2 213  |1 01  |b 1561486728  |h ORD  |x 0551  |y x  |z 06-08-15 
980 |2 293  |1 01  |b 1598245783  |h ORD  |x 3293  |y xf  |z 28-01-16 
981 |2 20  |1 01  |r http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:gbv:9-002289-5 
981 |2 21  |1 01  |r http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:gbv:9-002289-5 
981 |2 22  |1 01  |r http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:gbv:9-002289-5 
981 |2 23  |1 01  |r http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:gbv:9-002289-5 
981 |2 30  |1 01  |r http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:gbv:9-002289-5 
981 |2 40  |1 01  |r http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:gbv:9-002289-5 
981 |2 60  |1 01  |r http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:gbv:9-002289-5 
981 |2 69  |1 01  |r https://epub.ub.uni-greifswald.de/rewrite/index/id/type/opus3-id/value/2289 
981 |2 70  |1 01  |r http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:gbv:9-002289-5 
981 |2 105  |1 01  |r http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:gbv:9-002289-5 
981 |2 110  |1 01  |r http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:gbv:9-002289-5 
981 |2 132  |1 01  |r http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:gbv:9-002289-5 
981 |2 161  |1 01  |r http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:gbv:9-002289-5 
981 |2 170  |1 01  |r http://ub-ed.ub.uni-greifswald.de/opus/frontdoor.php?source_opus=2289 
981 |2 213  |1 01  |r http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:gbv:9-002289-5 
981 |2 293  |1 01  |r http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:gbv:9-002289-5 
983 |2 60  |1 01  |8 10  |a ho 
983 |2 69  |1 00  |8 00  |a UD 6100 
983 |2 69  |1 00  |8 01  |a UR 8200 
983 |2 69  |1 00  |8 02  |a VE 9850 
983 |2 170  |1 00  |8 00  |a 04 
985 |2 20  |1 01  |a OLRD 
985 |2 69  |1 01  |a 2015.5082 
985 |2 110  |1 01  |a OLRD 
985 |2 170  |1 01  |a OLRD 
995 |2 22  |1 01  |a SUBolrd 
995 |2 23  |1 01  |a olr-d 
995 |2 60  |1 01  |a OLRD 
995 |2 63  |1 01  |a ORD 
995 |2 132  |1 01  |a OLR-DISS 
995 |2 161  |1 01  |a ORD 
995 |2 213  |1 01  |a ORD 
995 |2 293  |1 01  |a ORD 
998 |2 23  |1 01  |0 2015-08-06:09:02:53